Practical aspects of computational chemistry IVсборник

Статьи, опубликованные в сборнике

---

• 
  • 2016 Detailed Atomistic Modeling of Si(110) Passivation by Atomic Layer Deposition of Al2O3
  • Rybakov A.A., Larin A.V., Vercauteren D.P., Zhidomirov G.M.
  • в сборнике Practical aspects of computational chemistry IV, издательство Springer US (New York, United States), с. 303-351 DOI