ИСТИНА

• Охват: Международная
• Даты проведения: 26 февраля - 5 марта 2018
• Место проведения: San Jose, California, United States
• Организатор:
  SPIE
• Число участников из МГУ: 2
• Число докладчиков: 1
• Веб-сайт: http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography
• Добавил в систему: Кобельков Сергей Георгиевич

Доклады:

• 2018 Constraint approaches for some inverse lithography problems with pixel-based mask (Пленарный)
• Авторы: Han J., Granik Yu, Tritchkov A., Ройзен В., Родин С.Б., Кобельков С.Г.