Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ФНКЦ РР
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
SPIE Advanced Lithography
Конференция
Охват:
Международная
Даты проведения:
26 февраля - 5 марта 2018
Место проведения:
San Jose, California, United States
Организатор:
SPIE
Число участников из МГУ:
2
Число докладчиков:
1
Веб-сайт:
http://spie.org/conferences-and-exhibitions/advanced-lithography
Добавил в систему:
Кобельков Сергей Георгиевич
Доклады:
2018
Constraint approaches for some inverse lithography problems with pixel-based mask
(Пленарный)
Авторы:
Han J.
,
Granik Yu
,
Tritchkov A.
,
Ройзен В.
,
Родин С.Б.
,
Кобельков С.Г.