|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Атомно-слоевое осаждение TiO2 и Al2O3 на поверхность нанографитных пленок: структурные и автоэлектронные свойствадоклад на конференции
- Авторы: Туякова Ф.Т., Клещ В.И., Исмагилов Р.Р., Образцов А.Н., Образцова Е.А.
- Всероссийская с международным участием Конференция : Углеродные нанотрубки и графен: Новые горизонты
- Даты проведения конференции: 30 ноября - 4 декабря 2015
- Дата доклада: 1 декабря 2015
- Тип доклада: Стендовый
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Москва, ИОФ РАН, Russia
- Добавил в систему: Исмагилов Ринат Рамилович