![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Рассматриваются плюсы и минусы метода решения обратной литографической задачи в применении к задаче коррекции оптической близости для технологий, использующих несколько паттернов, так называемой ультрафиолетовой литографии и литографии самоупорядочивающихся структур