|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Challenges and Benefits of Using ILT in Multi - Patterning, DSA, EUV Applications доклад на конференции
- Авторы: Родин С.Б., Alexander Tritchkov, Кобельков С.Г.
- Международная Конференция (Семинар (workshop)) : 23rd Lithography Workshop
- Даты проведения конференции: 21-26 июня 2015
- Дата доклада: 21 июня 2015
- Тип доклада: Пленарный
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Ketchum, Idaho, United States
-
Аннотация доклада:
Рассматриваются плюсы и минусы метода решения обратной литографической задачи в применении к задаче коррекции оптической близости для технологий, использующих несколько паттернов, так называемой ультрафиолетовой литографии и литографии самоупорядочивающихся структур
- Добавил в систему: Кобельков Сергей Георгиевич