|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
E-beam lithography of dense 10 nm line/space pattern using the HSQ maskдоклад на конференции
- Авторы: Tatarintsev A.A., Shishlyannikov A., Rudenko K.V., Miakonkikh A.V.
- Международная Конференция : International Conference "Micro- and Nanoelectronics — 2018" (ICMNE-2018)
- Даты проведения конференции: 1-5 октября 2018
- Дата доклада: 3 октября 2018
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: Tatarintsev A.A.
- Место проведения: Звенигород, Московская область, Russia
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич