Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ФНКЦ РР
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Physical aspects of Dry plasma etching of photoresistin barrel reactors
доклад на конференции
Авторы:
Iermolova N.A.
,
Malyarov A.V.
,
Yakunin V.G.
,
Savinov V.P.
,
Sporikhin A.A.
,
Riaby V.A.
Международная Конференция :
XX ICPIG, 1, 167
Даты проведения конференции:
15-18 сентября 1991
Дата доклада:
15 октября 1991
Тип доклада:
Стендовый
Докладчик:
не указан
не указан
Iermolova N.A.
Malyarov A.V.
Yakunin V.G.
Savinov V.P.
Sporikhin A.A.
Riaby V.A.
Место проведения:
Piza, Italia, Italy
Добавил в систему:
Савинов Владимир Павлович