|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Physical aspects of Dry plasma etching of photoresistin barrel reactorsдоклад на конференции
- Авторы: Iermolova N.A., Malyarov A.V., Yakunin V.G., Savinov V.P., Sporikhin A.A., Riaby V.A.
- Международная Конференция : XX ICPIG, 1, 167
- Даты проведения конференции: 15-18 сентября 1991
- Дата доклада: 15 октября 1991
- Тип доклада: Стендовый
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Piza, Italia, Italy
- Добавил в систему: Савинов Владимир Павлович