ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
|
ФНКЦ РР |
||
Исследована генерация терагерцового излучения в эпитаксиальных пленках In0.53Ga0.47As/InP, выращенных в низкотемпературном режиме (low temperature growth– LTG) . LTG-InGaAs структуры были получены на подложках InP с ориентациями (100) и впервые (411)А при Tg = 200 °C и различных давлениях мышьяка. Исследованы морфология поверхности образцов с помощью атомно-силовой микроскопии и структурные особенности с помощью высокоразрешающей рентгеновской дифракции. Спектры терагерцового излучения, генерируемого эпитаксиальными плёнками LT-InGaAs, исследовались методом терагерцовой спектроскопии с временным разрешением (ТСВР) при накачке волоконным фемтосекундным лазером с длиной волны 1.56 мкм. Показано, что эффективность генерации излучения слоями LT-InGaAs на подложках InP (411)A в 3–5 раз эффективнее, чем на подложках InP (100). При разработке излучающих терагерцовых антенн в ТГц и ГГц диапазонах использование подложек InP с ориентацией (411)A может оказаться более предпочтительным для получения LT-InGaAs.