|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Two methods of improving dopant contrast for semiconductor structures under thin surface layers in scanning electron microscopeдоклад на конференции
- Авторы: Rau E., Tatarintsev A., Kolybin S., Karaulov V., Kupreenko S.
- Международная Конференция : International Conference "Micro- and nanoelectronics - 2016", October 3 - 7 , 2016, Moscow-Zvenigorod, Russia
- Даты проведения конференции: 3-7 октября 2016
- Дата доклада: 5 октября 2016
- Тип доклада: Стендовый
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Москва- Звенигород, Russia
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич