![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
анализ влияния неоднородности поверхности (в данном случае - прямоугольной диэлектрической вставки) на локализацию плазмы сильноточного импульсного поверхностного разряда и на индуцируемое разрядом высокоскоростное течение вблизи стенки канала.