Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ФНКЦ РР
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Nitrogen-containing titanium dioxide thin films deposited via reactive magnetron sputtering: structural features and phase transition
доклад на конференции
Автор:
Pustovalova A.A.
Международная Конференция (Семинар (workshop)) :
Nanoworkshop 2016: 2nd International Young Scientists School «NANOSTRUCTURED MATERIALS»
Даты проведения конференции:
10-11 мая 2016
Дата доклада:
11 мая 2016
Тип доклада:
Стендовый
Докладчик:
не указан
не указан
Pustovalova A.A.
Место проведения:
Томск, Russia
Добавил в систему:
Пустовалова Алла Александровна