![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
В данной работе описан рельеф поверхности поликристаллического кремния, образующийся под действием наклонного падения кластерных ионов Ar800+ 12 кэВ при различных углах падения пучка относительно нормали к поверхности. Показано влияние ионной дозы облучения на форму и размер, образующихся на поверхности «рипплов». Облученная поверхность исследовалась с помощью СЭМ. При малых флуенсах на поверхности хаотично образуются одиночные выступы, высота которых достигает десятков нанометров. По мере увеличения ионного флуенса количество выступов растет и происходит их объединение в группы вдоль линии фронта, образующегося волнообразного рельефа. В дальнейшем поверхностная миграция, переосаждение распыленного вещества и зависимость коэффициента распыления от локальной кривизны поверхности приводят к тому, что форма выступов эволюционирует к устойчивому состоянию. Один из склонов ориентирован перпендикулярно ионному пучку, а другой – параллельно. Дальнейшее увеличение флуенса приводит к росту амплитуды и уменьшению длины волны, образовавшегося волнообразного рельефа.