|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Use of Pixel-based Mask Optimization for Local Printability Enhancementдоклад на конференции
- Авторы: Alexander Tritchkov, Родин Сергей, Kyohei Sakajiri, Кобельков Сергей
- Международная Конференция (Семинар (workshop)) : 22nd Lithography Workshop
- Даты проведения конференции: 2013
- Тип доклада: Пленарный
- Докладчик: Alexander Tritchkov
- Место проведения: La Quinta, California, USA
-
Аннотация доклада:
In this paper we study the trade-offs and benefits of using pixel-based SRAF placement/OPC over conventional SRAF placement/OPC for various front-end and back-end design configurations. We explore the benefits of using pixel-based Local Printability Enhancement in an automated flow to eliminate hotspots that could be present on full chip after conventional SRAF insertion/OPC.
- Добавил в систему: Кобельков Сергей Георгиевич