![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
FeNi пленки и FeNi/Ti/FeNi тонкопленочные системы, были получены методом магнетронного распыления.Толщина однослойных FeNi плёнок была равна 170 нм и 340 нм. В трехслойных образцах толщина магнитных FeNi слоев была равна 170 нм, а Ti слоя – 2, 5 и 15 нм. FeNi пленки толщиной 170 нм имеют плоскостную магнитную анизотропию с лёгкой осью намагничивания, совпадающей с направлением магнитного поля, приложенного в процессе напыления пленок. Найдено, что FeNi пленки толщиной 340 нм являются изотропными, проявляют вращательную анизотропию с характерной для таких образцов закритической петлей гистерезиса и полосовой доменной структурой. Значение поля насыщения увеличивается практически на порядок по сравнению с образцом толщиной 170 нм.Значение поля насыщения трехслойных FeNi/ Ti /FeNi образцов зависит от толщины титановой прослойки. Образец с толщиной Ti прослойки, равной 5 нм, характеризуется наименьшим значением поля насыщения, то есть является наиболее магнитомягким.