|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Technological approaches for formation of high-density integral capacitors: deep etching and atomic layer depositionдоклад на конференции
- Авторы: Miakonkikh A., Pankratov S., Kuzmenko V., Rudenko K.
- Международная Конференция : 15th International Conference "Micro- and Nanoelectronics – 2023" (ICMNE–2023)
- Даты проведения конференции: 2-6 октября 2023
- Дата доклада: 3 октября 2023
- Тип доклада: Устный
- Докладчик: Miakonkikh A.
- Место проведения: Звенигород, Russia
- Добавил в систему: Панкратов Сергей Александрович
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Тезисы | icmne-2023_e-version-44.pdf | 138,9 КБ | 25 октября 2023 [pankratov.sa18@physics.msu.ru] |