ИСТИНА

Целью работы являлось получение тонких пленок тугоплавких металлов: Мо, W и Ta небольших размеров (<5 мм) на стеклянных подложках на установке Плазменный фокус (ПФ). В работе использовали установку ПФ-4 (ФИАН) c коаксиальными электродами и запасаемой энергией в конденсаторной батарее ~ 3,2 кДж. Осаждение пленок металлов на стеклянные подложки выполняли через металлические диафрагмы с отверстиями диаметром: 2.5, 3.5 и 4.5 мм. Размер диафрагм определялся возможностью получения достаточно однородных пленок на подложках при заданной запасаемой энергии в установке ПФ-4. Держатель образцов и диафрагмы были изготовлены из нержавеющей стали типа Х18Н10Т. Толщина металлических фольг подбиралась таким образом, чтобы имело место полное расплавление и испарение металла за время действия одного импульса плазмы. Толщина фольг была <50мкм. Рабочими газами были аргон (Ar) и азот (N2) при давлении в рабочей камере ~ 1 Toрр. Подложки из силикатного стекла размером ~ 20х20 мм изготавливали из фотопластинок толщиной ~1,5-2,0 мм. Подложки промывали этанолом и дистиллированной водой. Пленки металлов исследовали на растровом микроскопе EVO-40 с рентгеновским микроанализатором, оптическом профилометре 3D модели S Neox фирмы Sensobar-Tech, SL, цифровом профилометре XP-200 фирмы AMBIOS и оптическом микроскопе Leica DM. Средняя толщина пленок металлов на подложках находилась в интервале от единиц до ~10 мкм. Высокая адгезия пленок металлов со стеклянными подложками достигалась за счет глубокого проникновения частиц под поверхность стекла при высокой скорости плазменной струи >107 cм/с. Следует отметить, что осаждаемые пленки состоят из отдельных металлических частиц размером от десятков до сотен нанометров и поэтому их свойства существенно отличаются от пленок, получаемых магнетронным способом.