Аннотация:Исследуется тлеющий разряд в сантиметровых промежутках. Для описания разряда применяется диффузионно-дрейфовая модель, записанная для одномерного пространства и использующая локальную зависимость скорости ионизации от напряженности электрического поля. Система уравнений модели состоит из уравнений описывающих эволюцию концентраций электронов и ионов в исследуемом объеме и уравнения Пуассона для потенциала электрического поля с граничными условиями на катоде и аноде. Для решения данной начально-краевой задачи применена комбинированная конечно разностная - конечно объемная схемы, когда для конвективных слагаемых используется явные аппроксимации с разностями ориентированными против потока, для слагаемых описывающих диффузионный перенос - трехточечные аппроксимации, источниковые члены аппроксимируются полусуммой значений на новом и старом временных слоях. Трехточечная аппроксимация вторых производных в уравнении Пуассона приводит к системе линейных уравнений для нахождения потенциала электрического поля в узлах с трехдиагональной матрицей коэффициентов. Данная система линейных уравнений решается методом прогонки. В работе производится учет джоулева тепла, выделившегося внутри разрядного зазора, для этого диффузионно дрейфовая модель дополняется одномерным нестационарным уравнением теплопроводности с источниковым членом. Это уравнение аппроксимируется и решается способом аналогичным уравнению Пуассона. Приведенные в работе численные результаты связаны, в основном, с исследованиями диффузионно-дрейфовой модели. Приводятся распределения параметров, характеризующих состояние плазмы в межэлектродном промежутке (концентраций электроном и положительно заряженных ионов, напряженности и потенциала электрического поля и температуры среды) в зависимости от пространственной координаты при различных давлениях среды, различных расстояниях между электродами, разных коэффициентах электронной эмиссии на катоде.
Практическая ценность работы заключается в том, что разработанные алгоритм и программа могут быть использованы для оценки параметров плазмы в тлеющем разряде на этапе проектирования физического эксперимента, при проектирований плазменных устройств для нанесения покрытий, при разработке плазмохимических реакторов, газоразрядных источников света, газовых лазеров и позволяют оптимизировать параметры различных устройств электроники.