Изготовление фотонно-кристаллических отражателей для ультрафиолетового диапазона методом осаждения коллоидных частиц SiO2 с последующим инвертированиемдипломная работа (Бакалавр)
Организация, в которой проходила защита:МГУ имени М.В. Ломоносова,
Филиал МГУ имени М.В. Ломоносова в г. Душанбе
Год защиты:2024
Аннотация:Одной из задач, решаемых с помощью фотонных кристаллов (ФК), в том числе опалового типа, является создание различных оптических фильтров. Однако, из-за несовершенства структуры ФК опалового типа, такие фильтры в видимом диапазоне оказываются неконкурентоспособны. С другой стороны, с развитием науки и техники спектр новых оптических материалов существенно расширился за пределы видимого диапазона и захватил ИК и УФ области спектра. Проблемы создaния оптических устройств в видимой и ИК облaстях имеют различные решения. В видимом, ближнем ИК и ближнем УФ диaпазоне эффективно работают различные голографические и многослойные диэлектрические оптические фильтры, однако aналогичных коммерческих устройств для глубокого УФ излучения не существует, поскольку типичные используемые для оптических фильтров мaтериалы поглощают глубокий УФ свет. Задача создания эффективных узкополосных фильтров для глубокого ультрафиолета остается актуальной в наши дни.
В связи с этим, данная работа нацелена на изготовление фотонных кристаллов для УФ диапазона методом осаждения коллоидных частиц SiO2, их инвертирование и исследование их структуры и оптических характеристик как до, так и и после инвертирования.