Аннотация:На сегодняшний день оксид иттрия представляет большой интерес в
различных областях производства. Из-за черезвычайной устойчивости к
нагреву на воздухе, его широко используют в керамической
промышленности для создания оптически прозрачных керамических
материалов. Так же его применяют для варки оптического стекла, для
изготовления иттриевых ферритов, применяемых в радиоэлектроники.
Особый интерес оксид иттрия Y 2 O 3 представляет в виде буферных слоев,
использующихся в технологии производства высокотемпературных
сверхпроводящих лент второго поколения.
Для осаждения тонких пленок используют физический и химический
методы. Первый из них позволяет получить пленки лучшего качества, но он
является дорогостоящим и скорость нанесения таким методом невелика. Для
осаждения оксида иттрия Y 2 O 3 применяют химические методы. Синтез такого
нанесения включает в себя два этапа: приготовление раствора-прекурсора и
нанесение его на подложку. Целью работы являлось получение аморфных пленок Y2O3 на металлических подложках.