Чистые помещения и технологические средыжурнал

Статьи, опубликованные в журнале

---

• • 2018 Газодинамическая защита процессов и объектов микроэлектроники от внешних загрязнений
  • Веденеев В.В., Решмин А.И., Тепловодский С.Х., Зайко Ю.С., МАРКИН А.В., Трифонов В.В.
  • в журнале Чистые помещения и технологические среды, № 4, с. 54-63
• • 2016 НОВОЕ В СТАНДАРТИЗАЦИИ ЧИСТОТЫ ПОМЕЩЕНИЙ
  • Балаханов М.В.
  • в журнале Чистые помещения и технологические среды, № 2, с. 12-17
• • 2016 О ЖУРНАЛЕ, МЕТРОЛОГИИ И СТАНДАРТИЗАЦИИ ДЛЯ ЧИСТЫХ ПОМЕЩЕНИЙ И ТЕХНОЛОГИЧЕСКИХ СРЕД
  • Балаханов М.В.
  • в журнале Чистые помещения и технологические среды, № 4, с. 41-47
• • 2004 СТАНДАРТ ИСО 14644-3 ПРЕДСТАВЛЯЕТ НОВЫЙ ПОДХОД (Перевод М.В. Балаханова)
  • Фитцпатрик М.А., Гольдштейн К.
  • в журнале Чистые помещения и технологические среды, № 1, с. 4-5
• • 2002 HI-TECH - ВЫСОКИЙ УРОВЕНЬ ТЕХНОЛОГИЙ И СТАНДАРТОВ МОНИТОРИНГА ЧИСТОТЫ
  • Балаханов М.В.
  • в журнале Чистые помещения и технологические среды, № 2, с. 3-4.