|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Method of plasma chemical processing of substrates and a device for its realization.патент
- Авторы: Ryabyi V.A., Savinov V.P., Sporykhin A.A., LEE H.J.
- Номер: Korean Patent No. KR0391180
- Дата публикации патента: 1 июля 2003 г.
-
Реферат (описание изобретения):
Предложен способ плазмохимической обработки подложек и разработано устройство для его осуществления.
- Добавил в систему: Савинов Владимир Павлович