ИСТИНА

Изобретение относится к измерительной технике, а конкретнее к оптической профилометрии, и может быть использовано для измерения поверхностного микрорельефа, полученного любым способом в произвольной разнородной структуре, обладающей различными оптическими характеристиками. Сущность изобретения заключается в том, что исследуемую структуру до проведения измерений на оптическом профилометре равномерно покрывают тонким слоем металла, при этом толщина слоя определяется исходя из требования пренебрежимой малости отражения оптического излучения от обратной границы металлического слоя и последующих подслоев. Техническим результатом является возможность измерения топологических структур или рельефной поверхности субдесятинанометрового уровня (диапазона (1,0-10) нм) и расширение номенклатуры материалов поверхностных структур, которые можно контролировать с помощью стандартных оптических профилометров. 2 ил., 2 табл.