![]() |
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Основная цель проекта: проведение исследований, направленных на повышение лучевой прочности многослойных оптических покрытий при воздействии мощного импульсного лазерного излучения. Основная задача проекта: исследования направленные на повышение лучевой прочности многослойных оптических покрытий при воздействии мощного импульсного лазерного излучения.
Моделирование методами молекулярной динамики изменения свойств пленок с помощью отжига Суперкомпьютерное моделирование процесса напыления тонких пленок диоксида кремния, направленное на изучение свойств тонких пленок при использовании методов магнетронного и ионно-лучевого напыления. Исследование зависимости структурных характеристик пленок от параметров моделирования, включая температуру подложки, угловое распределение осаждаемых атомов, распределение осаждаемых атомов по энергии. Разработка модели расчета напряжений, возникающих в пленках в процессе напыления пленок диоксида кремния. Выявление зависимостей напряжений от параметров напыления и метода напыления. Исследование возможностей расчета характеристик аморфных тонких пленок, влияющих на коэффициент теплового расширения материала Исследование возможностей создания аморфных тонких пленок на основе легированного диоксида кремния, имеющих низкий показатель преломления и более высокий по сравнению с диоксидом кремния коэффициент теплового расширения. Проведение патентных исследований по существующим технологиям изготовления отражающих покрытий.
В качестве научного задела для реализации поставленных задач коллектив имеет следующие публикации: 1.Grigoriev F.V., Sulimov A.V., Kochikov I.V., Kondakova O.A., Sulimov V.B., Tikhonravov A.V. High-performance atomistic modeling of optical thin films deposited by energetic processes. International Journal of High Performance Computing Applications // - 2015. - Vol 29. No.2. - P. 184-192. IF = 2.0 2.Grigoriev F., Sulimov A., Kochikov I., Kondakova O., Sulimov V., Tikhonravov A. Computational experiments on atomistic modeling of thin-film deposition. // Applied optics. - 2017. - Vol. 56. No. 4. - P.87-90. IF = 2.0 3.Grigoriev F. V., Sulimov V. B., Tikhonravov A. V. High performance atomistic simulation of thin films porosity and surface structure // Proc. SPIE 10691, Advances in Optical Thin Films VI, 1069109 (5 June 2018). IF = 0.5 4.Grigoriev F.V., Sulimov V.B., Tikhonravov A.V. Atomistic simulation of the glancing angle deposited thin films. Journal of Non-Crystalline Solids, 2019, 98-102,512. IF = 2.6
Хоздоговор, НИР с ФГУП «НИИ НПО «ЛУЧ» |
# | Сроки | Название |
1 | 6 июля 2021 г.-30 октября 2021 г. | Проведение исследований, направленных на повышение лучевой прочности многослойных оптических покрытий при воздействии мощного импульсного лазерного излучения |
Результаты этапа: В соответствии с заданием проведены патентные исследования с использованием ресурсов баз данных Всемирной организации интеллектуальной собственности, Евразийской патентной организации, патентных ведомств России, США и др., а также с использованием публикаций в сети Интернет и научных электронных библиотек. Проанализирован мировой и отечественный опыт по разработке ОП. Проанализированы наиболее значимые технические решения, относящиеся к по существующим технологиям изготовления отражающих покрытий, определены основные тенденции развития в данной области техники и технический уровень с оценкой применимости в разработке известных прогрессивных технических решений. Таким образом, на основании проведенных патентных исследований можно сделать следующие выводы: 1. Использование известных запатентованных технических решений в объекте разработки нецелесообразно. 2. На данном этапе разработки объекта техники не выявлены результаты интеллектуальной деятельности, способные в соответствии со ст. 1225 IV части ГК РФ к правовой охране в качестве изобретения (полезной модели). 3. Объект исследований обладает патентной чистотой и не нарушает прав третьих лиц на дату последних просмотренных материалов. 4. Проведение НИР по указанной в ТЗ теме является чрезвычайно актуальным, т.к. направлено на исследования влияния параметров напылительного процесса на структурные свойства тонких пленок и их лучевую прочность. Актуальность данных исследований также подтверждают найденные в ПИ материалы. |
Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".