Пористые полупроводниковые наноструктуры для фотовольтаических устройствНИР

New porous semiconductive structures for optoelectronic and photovoltaic devices

Источник финансирования НИР

грант РНФ

Этапы НИР

# Сроки Название
1 13 января 2022 г.-31 декабря 2022 г. Пористые полупроводниковые наноструктуры для фотовольтаических устройств
Результаты этапа: Прозрачные пленки на основе полупроводниковых оксидов с различной структурой, морфологией и контролируемыми оптоэлектронными свойствами востребованы в микроэлектронике, фотовольтаических устройствах, а также в биомедицинских системах. Актуальными на сегодняшний день задачами по совершенствованию и разработке новых типов электронных устройств альтернативной энергетики, таких как солнечный элемент перовскитного типа, ячейка Гретцеля, являются задачи по формированию прозрачных, сплошных или пористых полупроводниковых пленок p или n типа, на основе оксида металлов и сложных галогенидов. Экспериментально показано, что пористые структуры интересны по сравнению с тонкими сплошными пленками как большей площадью контакта с сенсибилизатором (или светопоглощающим компонентом), так и возможностью выступать в роли оптической ловушки, уменьшающей отражение света от поверхности устройства. В рамках первого этапа проекта разработаны способы получения пористых полупроводниковых пленок с микроструктурой упорядоченных или неупорядоченных опалоподобных матриц. Были оптимизированы условия формирования монолитных и пористых пленочных структур прозрачных полупроводниковых материалов на основе ZnO, SnO2, In2O3 с использованием подходов печати (трафаретная печать), центифужного нанесения (spin-coating), а также подходов гальванического осаждения. В роли «жертвенного темплата» с различной степенью упорядочения выступали полистирольные синтетические опалы. Для каждого из трех элементов были выбраны составы электролитов, позволяющие обеспечить максимальную плотность расположения зародышей на рабочем электроде (стеклянный электрод ITO). В рамках этапа развивались два основные подхода – растворный метод синтеза нанокристаллических оксидов в летучих растворителях и метод гальванического осаждения. Показано, что для формирования гладких покрытий преимущество имеют методы с использованием коллоидных растворов в этаноле и ряде смешанных растворителей на его основе, благодаря простоте и возможности полного удаления растворителя при сравнительно низких температурах. В случае электрохимических методов синтеза, более качественные пористые структуры были получены при использовании водных электролитов, чем для электролитов на основе диметилсульфоксида. Водные электролиты обеспечивают практически полное окисление металла в гидроксо-формы, что требует дальнейшего отжига при температурах 300 – 400°С. Для модельных толстых пленок в теневом режиме изучена температурная зависимость общего сопротивления. Измерения производились бесконтактным методом, что позволило применить рабочие электроды ITO в роли одного из контактов при регистрации вольтамперометрической кривой. Изучены условия температурной стабильности композитных пленок «MAPbI3 - оксид». Показано, что в составе нанокомпозится MAPbI3/ZnO наблюдается наиболее существенная деградация материала уже при Т = 60°С вследствие окислительных процессов, катализируемых оксидом. Для образцов MAPbI3/SnO2 и MAPbI3/In2O3 изменение температур деградации также наблюдается, однако оно менее существенное (110°С и 140°С, соответственно). К числу основных объектов исследования в первом этапе можно отнести лишь нанокомпозиты с иодоплюмбатом(II) метиламмония, на основании которого создано большое число фотовольтаических устройств. В то же время, перспективным является направление исследований по изучению взаимодействия стабильности пленок SnO2, ZnO, In2O3 с иными сложными иодидами и бромидами, актуальными для фотоники. В ходе выполнения проекта получены новые фундаментальные знания о фазовых равновесиях для ряда галогенидных систем, имеющих перспективы для дальнейшего изучения в составе композитных пленок. Эти сведения позволят осуществить анализ изменения температур деградации материалов при нагревании для ряда новых композитных систем.
2 1 января 2023 г.-31 декабря 2023 г. Пористые полупроводниковые наноструктуры для фотовольтаических устройств
Результаты этапа: 1) Методики формирования коллоидных растворов ZnO, SnO2, In2O3, соответствующих критериям для «функциональных чернил», пригодных для формирования пористых полупроводниковых покрытий с использованием полимерных темплатов. В рамках первого этапа разработаны методики формирования коллоидных растворов ZnO и In2O3 с использованием подходов контролируемого гидролиза. Для получения коллоидного раствора SnO2 производилось через стадию получения нанокристаллического оксида олова(IV) и его последующего диспергирования. 1. Методика синтеза коллоидного раствора нанокристаллического оксида цинка 2. Методика синтеза коллоидного раствора нанокристаллического оксида индия 3. Методика синтеза коллоидного раствора нанокристаллического диоксида олова 2) Методики электрохимического (потенциостатического) осаждения цинка, олова и индия, с использованием набора электролитов, а также протокол характеризации полученных субстратов нанокристаллического ZnO с точки зрения контроля фазового состава и микроструктуры. 1. Формирование покрытий оксида цинка 2. Формирование покрытий оксида индия 3. Формирование покрытий диоксида олова 3) Методики электроосаждения цинка, индия и олова в поры жертвенного темплата для электролитов различных составов (температура, концентрации, режимы осаждения и пр.) с описанием фазового состава и микроморфологии осадков. 4) Описание характера проводимости и величин общего электросопротивления наиболее сплошных из полученных полупроводниковых пленок в двухконтактной геометрии. 5) Результаты анализа полученных толстых пленок и покрытий ZnO, In2O3 и SnO2 с низкой шероховатостью (покрытий, полученных без использования жертвенного темплата), которые будут использованы для выявления преимуществ и недостатков пористых систем аналогичных составов. 6) Исследование взаимодействия компонентов двуслойных структур «полупроводник – светопоглощающий комопненет» со сложной границей раздела фаз при нагревании. 7) Анализ оптических свойств пористых пленок методами спектроскопии диффузного отражения (СДО) и люминесцентной спектроскопии (ФЛ). Спектральные характеристики материалов полученных пленок проанализированы в координатах Кубелки-Мунка и Тауца, оценены величины оптических ширин запрещенной зоны. Данные измерения проводились на образцах пленок, сформированных на основе коллоидных кристаллов на стекле или гальваническим методом на подложках с покрытием ITO.

Прикрепленные к НИР результаты

Для прикрепления результата сначала выберете тип результата (статьи, книги, ...). После чего введите несколько символов в поле поиска прикрепляемого результата, затем выберете один из предложенных и нажмите кнопку "Добавить".