|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Технологии формирования затворного HkMG-стека с MIPS-структурой для МДП-транзистора с критическими размерами 32/28 нмстатья
- Авторы: Мяконьких А.В., Рогожин А.Е., Татаринцев А.А., Руденко К.В., Гущин О.П.
- Сборник: Труды ФТИАН
- Том: 28
- Год издания: 2018
- Издательство: ФГБУ "Издательство "Наука"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 42
- Последняя страница: 59
- Добавил в систему: Татаринцев Андрей Андреевич