Аннотация:Представлены результаты численного моделирования формирования изображения фазовых и фазово-растровых масок для фотолитографии и голографии. Проведено исследование характеристик контраста и критических размеров оптического изображения в зависимости от величины численной апертуры и параметра когерентности.