|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Short-circuited double Langmuir probe as a model of a conducting wafer under plasma processingстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 6 мая 2016 г.
- Авторы: Aleksandrov A.F., Riaby V.A., Savinov V.P., Yakunin V.G.
- Журнал: Russian Microelectronics
- Том: 34
- Номер: 1
- Год издания: 2005
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 18
- Последняя страница: 21
- DOI: 10.1007/s11180-005-0002-y
- Добавил в систему: Якунин Валерий Георгиевич