Micro-Raman Spectroscopy for Monitoring of Deposition Quality of High-k Stack Protective Layer onto Nanowire FET Chips for Highly Sensitive miRNA Detection

Malsagova, K.; Pleshakova, T.; Kozlov, A.; Shumov, I.; Ilnitskii, M.; Miakonkikh, A.; Popov, V.; Rudenko, K.; Glukhov, A.; Kupriyanov, I.; Ivanova, N.; Rogozhin, A.; Archakov, A.; Ivanov, Y.

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science, Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 26 декабря 2018 г.

Авторы: Malsagova Kristina, Pleshakova Tatyana, Kozlov Andrey, Shumov Ivan, Ilnitskii Mikhail, Miakonkikh Andrew, Popov Vladimir, Rudenko Konstantin, Glukhov Alexander, Kupriyanov Igor, Ivanova Nina, Rogozhin Alexander, Archakov Alexander, Ivanov Yuri
Журнал: Biosensors
Том: 8
Номер: 3
Год издания: 2018
Издательство: MDPI
Местоположение издательства: Basel, Switzerland
Первая страница: 72
DOI: 10.3390/bios8030072
Добавил в систему: Карташов Игорь Николаевич

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ФНКЦ РР
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ФНКЦ РР

Micro-Raman Spectroscopy for Monitoring of Deposition Quality of High-k Stack Protective Layer onto Nanowire FET Chips for Highly Sensitive miRNA Detectionстатья