Dependence of electric potentials at trench surfaces on ion angular distribution in plasma etching processesстатья

Статья опубликована в высокорейтинговом журнале

Информация о цитировании статьи получена из Web of Science, Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 марта 2016 г.

Прикрепленные файлы


Имя Описание Имя файла Размер Добавлен
1. Полный текст 2016_Palov_et.al._JPhysD.pdf 1,0 МБ 10 февраля 2025 [AlexP]