Газодинамическая защита процессов и объектов микроэлектроники от внешних загрязнений

Авторы: Веденеев В.В., Решмин А.И., Тепловодский С.Х., Зайко Ю.С., МАРКИН А.В., Трифонов В.В.
Журнал: Чистые помещения и технологические среды
Номер: 4
Год издания: 2018
Первая страница: 54
Последняя страница: 63
Аннотация: Разработана технология формирования затопленных струй воздуха круглого поперечного сечения, остающихся однонаправленными на длине, равной 5 – 6 диаметрам струи, при достаточно больших числах Рейнольдса (~ 2000 – 13000). Показана эффективность защиты объектов микроэлектроники, находящихся в подобных струях, от воздействия окружающей среды. Разработанная технология может быть использована для создания локальных чистых зон, не ограниченных твёрдыми стенками, в производстве микроэлектроники
Добавил в систему: Трифонов Владимир Викторович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ФНКЦ РР
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА