|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Carbon and fluorine co-implantation for boron diffusion suppression in extremely ultra shallow junctionsстатья
- Авторы: Miakonkikh A.V., Rogozhin A.E., Rudakov V.I., Rudenko K.V., Lukichev V.F.
- Сборник: -
- Том: 9440
- Год издания: 2014
- DOI: 10.1117/12.2181006
- Добавил в систему: Руденко Константин Васильевич