Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ФНКЦ РР
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Hopping conductivity of ion-implanted by sulphur silicon
статья
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 28 мая 2015 г.
Авторы:
Kulbachinskii V.A.
,
Timofeev A.B.
,
Uliashin A.G.
,
Abramov V.V.
,
Mironova G.A.
,
Shlopak N.V.
Журнал:
Defect and Diffusion Forum
Том:
103
Год издания:
1993
Издательство:
Scitec Publications Ltd.
Местоположение издательства:
Switzerland
Первая страница:
341
Последняя страница:
346
Добавил в систему:
Миронова Галина Александровна