Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ФНКЦ РР
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Application of a high durability DC arc plasmatron to plasma processing of silicon substrates
статья
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 7 июля 2020 г.
Авторы:
Riaby V.A.
,
Plaksin V.Yu
,
Kim J.H.
,
Mok Y.S.
,
H-J Lee
,
Choi C.K.
Журнал:
Journal of Korean Forest Society
Том:
48
Номер:
6
Год издания:
2006
Первая страница:
1696
Последняя страница:
1701
Добавил в систему:
Рябый Валентин Анатольевич