|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Встраиваемый в технологию процесс CVD-роста УНТ с использованием каталитических тонких пленок Ct–Me–N–Oстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 июля 2020 г.
- Авторы: Громов Д.Г., Булярский С.В., Дубков С.В., Павлов А.А., Скорик С.Н., Трифонов А.Ю., Шулятьев А.С., Шаман Ю.П., Кицюк Е.П., Дудин А.А., Сиротина А.П., Гаврилов С.А.
- Журнал: Микроэлектроника
- Том: 46
- Номер: 2
- Год издания: 2017
- Издательство: Общество с ограниченной ответственностью Интеграция: Образование и Наука
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 83
- Последняя страница: 90
- DOI: 10.7868/S054412691702003X
- Добавил в систему: Воробьева Екатерина Андреевна