|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Electron field emission from silicon films deposited by inductively coupled plasma CVD at room temperature. Сборник трудов IVтезисы доклада
- Авторы: Wang X.Q., Yin M., He D.Y., Karabutov A.V., Kazanskii A.G.
- Сборник: Сборник трудов IV Международной конференции «Аморфные и микрокристаллические полупроводники»
- Тезисы
- Год издания: 2004
- Место издания: Издательство СПбГПУ Санкт-Петербург
- Первая страница: 21
- Последняя страница: 21
- Добавил в систему: Казанский Андрей Георгиевич