|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Co-deposition of diamond and beta-SiC by microwave plasma CVD in H-2-CH4-SiH4 gas mixturesстатья
- Авторы: Sedov V.S., Martyanov A.K., Khomich A.A., Savin S.S., Voronov V.V., Khmelnitskiy R.A., Bolshakov A.P., Ralchenko V.G.
- Журнал: Diamond and Related Materials
- Том: 98
- Год издания: 2019
- Издательство: Elsevier BV
- Местоположение издательства: Netherlands
- DOI: 10.1016/j.diamond.2019.107520
- Добавил в систему: Мартьянов Артем Константинович