Формирование наноструктурированных пленок MoS2, WS2, MoO2 и гетероструктур на их основе

Логинов, А.Б.; Исмагилов, Р.Р.; Бокова-Сирош, С.Н.; Божьев, И.В.; Образцова, Е.Д.; Логинов, Б.А.; Образцов, А.Н.

Авторы: Логинов А.Б., Исмагилов Р.Р., Бокова-Сирош С.Н., Божьев И.В., Образцова Е.Д., Логинов Б.А., Образцов А.Н.
Журнал: Журнал технической физики
Том: 91
Номер: 10
Год издания: 2021
Издательство: Наука
Местоположение издательства: СПб.
Первая страница: 1509
Последняя страница: 1516
DOI: 10.21883/JTF.2021.10.51364.102-21
Аннотация: Синтезированы тонкопленочные покрытия из двумерных материалов WS2, MoS2, MoO2 и композитов на их основе, исследованы морфологические и структурные свойства осаждаемых покрытий. Получение пленок производилось методом осаждения из газовой фазы с использованием порошкообразных прекурсоров MoO3, WO3 и S. Определены зависимости структурно-морфологических свойств, химического состава получаемых пленок от параметров процесса осаждения. Среди прочих получены пленки, состоящие извертикально ориентированных пластин как из чистого MoO2, так и из MoO2, покрытого тонким слоем MoS2, поликристаллические пленки, состоящие из кристаллитов WS2 правильной треугольной формы, а также однородные сплошные пленки WS2 толщиной порядка 20 nm с площадью покрытия порядка 2 × 2mm. Были получены также пленки, состоящие из наложенных друг на друга кристаллитов WS2 правильной треугольной формы и кристаллитов MoS2 без правильной огранки.
Добавил в систему: Образцова Елена Дмитриевна

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ФНКЦ РР
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ФНКЦ РР

Формирование наноструктурированных пленок MoS2, WS2, MoO2 и гетероструктур на их основестатья

Прикрепленные файлы