|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Функционализация поверхности low-k диэлектриков ионами Ar низкой энергиистатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК- Авторы: Соловых А.А., Сычева А.А., Воронина Е.Н.
- Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
- Том: 48
- Номер: 7
- Год издания: 2022
- Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 16
- Последняя страница: 19
- DOI: 10.21883/PJTF.2022.07.52286.19085
- Аннотация: Представлены результаты моделирования воздействия атомов и ионов Ar низкой энергии на поверхность low-k диэлектрика с использованием метода теории функционала плотности. Исследован механизм удаления CH3-групп с поверхности материала под воздействием атомов и ионов Ar; получены оценки пороговой энергии данного процесса.
- Добавил в систему: Сычева Анастасия Александровна