|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Titanium oxynitride thin films deposited by the reactive magnetron sputtering: Structure and physical-mechanical propertiesстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 18 мая 2022 г.
- Авторы: Morozova N., Konishchev M., Pustovalova A., Bykova Yu, Grebneva I., Kuzmin O., Pichugin V.
- Сборник: 2012 7th International Forum on Strategic Technology (IFOST)
- Год издания: 2012
- Место издания: IEEE
- Первая страница: 1
- Последняя страница: 4
- DOI: 10.1109/ifost.2012.6357769
- Добавил в систему: Пустовалова Алла Александровна