|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Influence of noble gases on the reaction of plasma-chemical decomposition of silicon organic compounds in the dielectric barrier dischargeтезисы доклада
- Авторы: Kozlov K.V., Sonnenfeld A., Behnke J.F., H-E Wagner
- Сборник: 10 Bundesdeutsche Fachtagung Plasmatechnologie
- Тезисы
- Год издания: 2001
- Место издания: Greifswald, Germany
- Первая страница: 80
- Последняя страница: 80
- Добавил в систему: Козлов Кирилл Вадимович