|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
ВЛИЯНИЕ ОБРАБОТКИ В ПЛАЗМЕ ПОНИЖЕННОГО ДАВЛЕНИЯ НА РАСТВОРИМОСТЬ ХИТОЗАНСОДЕРЖАЩИХ ПЛЕНОКстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК- Авторы: Лунев И.В., Бирдибекова А.В., Попырина Т.Н., Демина Т.С., Гильман А.Б., Тимашев П.С., Акопова Т.А.
- Журнал: Наноиндустрия
- Том: 14
- Номер: 6s
- Год издания: 2021
- Издательство: АО "Рекламно-издательский центр "Техносфера"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 399
- Последняя страница: 406
- DOI: 10.22184/1993-8578.2021.14.6s.399.406
- Аннотация: Исследовано влияние обработки в плазме низкочастотного тлеющего разряда при пониженном давлении на растворимость пленок на основе хитозана или его сополимера с олиголактидом и коллагеном в водных средах. Изучен вклад различных факторов, в т. ч. пониженного давления, УФ-излучения, взаимодействия активных компонентов плазмы с поверхностью полимеров, на потерю растворимости. Установлено, что образование нерастворимой в воде фракции хитозансодержащих пленочных образцов после обработки в плазме связано в основном с воздействием УФ-излучения, однако определенную роль играет воздействие электронов и ионов, а также пониженное давление.
- Добавил в систему: Попырина Татьяна Николаевна
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|