|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
PLASMA-DRIVEN INSTABILITY OF QUASI-LAMB ELASTIC MODES AS A MECHANISM OF LASER-INDUCED MICROPATTERNING OF A SILICON SURFACE WITH A SILICON DIOXIDE CAPстатья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 ноября 2013 г.
- Авторы: Emel’yanov V.I., Seval’nev D.M.
- Журнал: Journal of Russian Laser Research
- Том: 30
- Номер: 1
- Год издания: 2009
- Издательство: Kluwer Academic/Plenum Publishers
- Местоположение издательства: United States
- Первая страница: 21
- Последняя страница: 33
- Аннотация: A model of the electron–hole plasma-driven instability of quasi-Lamb elastic modes in semiconductors with a dioxide cap is developed and applied to the description of laser-induced micropatterning of the semiconductor surface. A good correspondence of the theoretical and experimental results is obtained
- Добавил в систему: Емельянов Владимир Ильич