|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
MASS TRANSFER OF SEMICONDUCTORS AT LOW FLOW ARGON ION BEAM SPUTTERINGстатья
- Авторы: Chebotarev S., Pashchenko A., Lunin L., Irkha V.
- Журнал: International Journal of Applied Engineering Research
- Том: 11
- Номер: 3
- Год издания: 2016
- Первая страница: 1622
- Последняя страница: 1629
- Добавил в систему: Чеботарев Сергей Николаевич