Фоточувствительные мемристивные структуры на основе оксида графена и углеродных наночастиц

Митюшев, Н.Д.; Баранов, А.Н.; Панин, Г.Н.

Авторы: Митюшев Н.Д., Баранов А.Н., Панин Г.Н.
Сборник: Материалы XVII Курчатовской молодёжной научной школы (Москва, 20-23 марта 2023г.) Сборник аннотаций
Тезисы
Год издания: 2023
Первая страница: 141
Последняя страница: 142
Аннотация: Мемристоры - это двухэлектродные устройства, резистивные состояния которых изменяются при прохождении через них заряда, и эти состояния энергонезависимы. 2D материалы, такие как оксид графена (ОГ), позволяют создавать атомарно-тонкие гетерогенные структуры на основе Ван-дер-Ваальсовых взаимодействий с уникальными электрическими и оптическими свойствами. Двумерные материалы могут быть модифицированы с помощью углеродных наночастиц (УНЧ), что дает возможность эффективно контролировать фоторезистивные состояния с помощью света в широком электромагнитном диапазоне.Целью нашей работы было создание фоточувствительных мемристивных планарных структур на основе оксида графена с использованием углеродных наночастиц для контроля фоторезистивного переключения в видимом диапазоне. Последовательность стадий изготовления структур включала:1. Нанесение золя ОГ на кремниевую (Si/SiO2) подложку методом накапывания на вращающуюся подложку с последующей сушкой.2. Восстановление ОГ либо аскорбиновой кислотой, либо гидразином в присутствии фторида аммония. Отделение пленки от подложки путем растворения слоя SiO2 в плавиковой кислоте, и ее последующий перенос на измерительную структуру, изготовленную методом фотолитографии.3. Синтез УНЧ, их диализ и нанесение на пленку восстановленного оксида графена (ВОГ). Полученные наноразмерные, 30-40 нм толщиной пленки были исследованы c помощью КР, ИК и РФЭ спектроскопии, изучена их морфология. На основе этих пленок были изготовлены 142фоторезистивные структуры и измерены их вольтамперные характеристики (ВАХ).
Добавил в систему: Митюшев Никита Дмитриевич

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ФНКЦ РР
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ФНКЦ РР

Фоточувствительные мемристивные структуры на основе оксида графена и углеродных наночастицтезисы доклада

Прикрепленные файлы