|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Comparative Simulation Analysis of Process-Induced Variability in Nanoscale SOI and Bulk Trigate FinFETsстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 15 февраля 2024 г.
- Авторы: Brown Andrew R., Daval Nicolas, Bourdelle Konstantin K., Nguyen Bich-Yen, Asenov Asen
- Журнал: IEEE Transactions on Electron Devices
- Том: 60
- Номер: 11
- Год издания: 2013
- Издательство: Institute of Electrical and Electronics Engineers
- Местоположение издательства: Piscataway, NJ, United States
- Первая страница: 3611
- Последняя страница: 3617
- DOI: 10.1109/ted.2013.2281474
- Добавил в систему: Бурдель Константин Константинович