Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ФНКЦ РР
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Elastic strain and dopant activation in ion implanted strained Si nanowires
статья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Авторы:
Minamisawa R.A.
,
Habicht S.
,
Buca D.
,
Carius R.
,
Trellenkamp S.
,
Bourdelle K.K.
,
Mantl S.
Журнал:
Journal of Applied Physics
Том:
108
Номер:
12
Год издания:
2010
Издательство:
AIP Publishing
Местоположение издательства:
United States
DOI:
10.1063/1.3520665
Добавил в систему:
Бурдель Константин Константинович