Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ФНКЦ РР
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Formation and characterization of ultra-thin Ni silicides on strained and unstrained silicon
статья
Авторы:
Knoll L.
,
Zhao Q.T.
,
Habicht S.
, Urban C.,
Bourdelle K.K.
,
Mantl S.
Сборник:
2010 International Workshop on Junction Technology Extended Abstracts
Год издания:
2010
Место издания:
IEEE
DOI:
10.1109/iwjt.2010.5474990
Добавил в систему:
Бурдель Константин Константинович