|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
The effect of Ar+ plasma immersion ion implantation on the electroforming voltage of HfO2-based structuresтезисы доклада
- Авторы: Permyakova O., Zvonov P., Pankratov S., Miakonkikh A., Rogozhin A.E.
- Сборник: Proceedings of the International Conference "Micro- and Nanoelectronics – 2023" (ICMNE–2023), 2–6 October 2023, Мoscow–Zvenigorod, Russia. Book of Abstracts
- Тезисы
- Год издания: 2023
- Место издания: Maks Press Мoscow
- Первая страница: 26
- Последняя страница: 26
- Добавил в систему: Панкратов Сергей Александрович
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|---|---|---|---|---|
| 1. | Полный текст | Тезисы | icmne-2023_e-version-27.pdf | 211,3 КБ | 25 октября 2023 [pankratov.sa18@physics.msu.ru] |