|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
The Influence of Small F2, H2, and HF Additives on the Concentration of Active Particles in Tetrafluoromethane Plasmaстатья
- Авторы: Efremov A.M., Smirnov S.A., Betelin V.B.
- Журнал: Russian Microelectronics
- Том: 52
- Номер: 5
- Год издания: 2023
- Издательство: Maik Nauka/Interperiodica Publishing
- Местоположение издательства: Russian Federation
- Первая страница: 372
- Последняя страница: 378
- DOI: 10.1134/s1063739723700634
- Добавил в систему: Стамов Любен Иванович