СИНТЕЗ МИКРОСФЕРНЫХ МАСОК ИЗ КОЛЛОИДНЫХ МИКРОЧАСТИЦ SiO2 И ИХ ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ

Бахия, Т.; Климонский, С.О.; Степанов, А.Л.

Авторы: Бахия Т., Климонский С.О., Степанов А.Л.
Сборник: XIII Конференция молодых ученых "Актуальные проблемы неорганической химии: перспективные магнитные и сверхпроводящие материалы", Звенигород, 14-16 ноября 2014 г
Тезисы
Год издания: 2014
Первая страница: 31
Последняя страница: 32
Аннотация: Высокодозовая имплантация ионов металлов через микросферные маски может применяться для получения дифракционных элементов, рассчитанных как на видимый, так и на ультрафиолетовый диапазоны. Для получения масок требуются сферические частицы с достаточно узким распределением по диаметру. Наиболее известным методом их синтеза является метод Штобера, заключающийся в гидролизе тетроэтоксисилана Si(OC2H5)4 (ТЭОС) в присутствии аммиака в качестве катализатора[1]. Однако получение данным методом частиц с требуемым стандартным отклонением оказывается затруднительным, в особенности при диаметре менее 200 нм. Целью нашей работы была имплантация ионов Ag+ через микросферную маску и изучение свойств полученного материала. В процессе выполнения работы решались следующие задачи: синтез узкодисперсных коллоидных микрочастиц SiO2; подбор условий синтеза для получения однослойных пленок; высокодозовая имплантация ионов Ag+ в стеклянную подложку через микросферную маску; изучение спектров пропускания полученных образцов. Микрочастицы SiO2 изготавливались путем доращивания зародышей, синтезированных по методу Штобера. Разработанная нами методика доращивания [2] заключалась в том, что: a) рост микрочастиц происходил при комнатной температуре; b) добавление TЭОСа производилось мелкими порциями через каждые 10 мин; c) количество введенного в раствор TЭOСa удваивалось каждый час и, соответственно, диаметр микрочастиц SiO2 удваивался каждые 3 часа. Пленки были получены методом вертикального осаждения [3]. Данный метод был выбран нами из-за возможности получения пленок с одинаковой ориентацией доменов на большой площади. Для получения монослоев подбирались концентрация частиц в растворе и скорость их осаждения. Нами были выращены пленки коллоидных кристаллов разной толщины, в том числе близкие к монослойным. Было установлено, что в процессе роста пленок происходит истощение коллоидного раствора, приводящее к постепенному истончению пленок вплоть до монослоя. Была проведена имплантация стеклянных пластин ионами Ag+ через полученные микросферные маски и изучены оптические свойства имплантированного слоя. В спектрах поглощения имплантированных образцов был обнаружен максимум, связанный с плазмонным резонансом на поверхности наночастиц серебра.
Добавил в систему: Климонский Сергей Олегович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ФНКЦ РР
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА

ФНКЦ РР

СИНТЕЗ МИКРОСФЕРНЫХ МАСОК ИЗ КОЛЛОИДНЫХ МИКРОЧАСТИЦ SiO2 И ИХ ПРИМЕНЕНИЕ ДЛЯ ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИтезисы доклада

Прикрепленные файлы