|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ФНКЦ РР |
||
Исследование профиля дозы облучения объекта электронным пучком в зависимости от глубинытезисы доклада
- Автор: Быстров П.А.
- Сборник: НАУЧНАЯ СЕССИЯ НИЯУ МИФИ-2015. Аннотации докладов. В 3 томах. Т. 2. Наука о жизни (высокотехнологическая медицина). Наноструктурная электроника. Плазменные, лазерные исследования и технологии. Прикладная математика и теоретическая физика
- Редакторы: Голотюк Олег Николаевич, Першенков Вячеслав Сергеевич, Петровский Анатолий Николаевич, Школьников Эдуард Яковлевич
- Серия: Научная сессия НИЯУ МИФИ
- Том: 2
- Тезисы
- Год издания: 2015
- Издательство: НИЯУ МИФИ
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 203
- Последняя страница: 203
- Добавил в систему: Быстров Петр Алексеевич